捷佳伟创申请退火装置及硅片生产设备专利，产能得到显著提高

     2024年10月22日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“退火装置及硅片生产设备”的专利，公开号CN 118763148 A，申请日期为2024年7月。专利摘要显示，本发明公开了一种退火装置及硅片生产设备。本发明的退火装置包括炉体及输送机构，炉体限定有处理腔，处理腔包括预热区、工艺区和冷却区；输送机构包括多个第一辊轴，多个第一辊轴沿输送方向并列设置于处理腔中，并且各第一辊轴的两端分别与处理腔的两侧的腔壁转动连接；其中，第一辊轴用于承载硅片载具，第一辊轴能够与硅片载具的底面抵接，第一辊轴受驱转动并带动硅片载具移动，以使硅片载具依次经过预热区、工艺区和冷却区。本申请中，相邻两组硅片载具从工艺区移出的时间间隔为退火的工艺时间，同时也是硅片的工艺周期，相较于真空退火装置的工艺周期，本申请的退火装置的工艺周期大大缩短，从而产能得到显著提高。